UV応用/関連装置
真空を特に必要としない常圧プロセスであり低温連続処理が可能なため、常圧・高速処理による高スループットが期待できます。またリモート型ソースにより、ワークへのダメージがほとんどなく効率の良い、精密洗浄、改質が可能です。コストの高い希ガス(He.Arガス)を使用せず、N2.O2等をを使用するため低コストのシステムです。
UV応用/関連装置
非常にエネルギーの高い短波長紫外線を用いて高効率な製造材料の精密洗浄、改質を行います。さらに瞬時点灯、単一光ゆえの低温処理などの特長も持っています。